Zirconium Oxide ZrO₂ |Hafnium Oxide HfO₂ 99.9%

תיאור

Zirconium Oxide ZrO₂, או זירקוניום דו חמצני, כמעט בלתי מסיס במים, ומסיס מעט ב-HCl ו-HNO₃, נקודת התכה 2700°C, צפיפות 5.85g/cm³, הוא גביש חסר ריח עם נקודת התכה גבוהה, התנגדות גבוהה, מקדם שבירה גבוה ותכונות מקדם התפשטות תרמי נמוך, שהוא החומרים החשובים העמידים בטמפרטורות גבוהות, חומרי בידוד קרמיים, מסנני קרינה קרמיים וחומרי גלם לאבני חן מלאכותיות.ZrO₂הוא סחורה כללית שיש לשמור במקום קריר, יבש ומאוורר היטב, שמור על המיכל סגור היטב והרחק מבסיס חזק.Zirconium Oxide ZrO₂משמש בדרך כלל לייצור מתכת זירקוניום ותרכובות זירקוניום, קרמיקה בתדירות גבוהה, חומרים שוחקים, פיגמנטים קרמיים, חומר עקשן וזכוכית אופטית.

מְסִירָה

Zirconium Oxide או Zirconium Dioxide ZrO₂עם טוהר של ZrO₂+HfO₂≥ 99.9% ו- Hafnium Oxide HfO₂עם טוהר HfO₂+ZrO₂≥99.9% ב-Western Minmetals (SC) Corporation ניתן לספק בגודל של אבקת 60-150 mesh, 25 ק"ג בשקית ניילון עם תוף קרטון בחוץ, או לפי מפרט מותאם אישית.

שאל עכשיו

פרטים

תגים

מפרט טכני

ZrO₂& HfO₂

Zirconium Oxide או Zirconium Dioxide ZrO₂ עם טוהר של ZrO₂+HfO₂≥ 99.9% ו- Hafnium Oxide HfO₂עם טוהר HfO₂+ZrO₂≥99.9% ב-Western Minmetals (SC) Corporation ניתן לספק בגודל של אבקת 60-150 mesh, 25 ק"ג בשקית ניילון עם תוף קרטון בחוץ, או לפי מפרט מותאם אישית.

פריטים	HfO₂	ZrO₂
מראה חיצוני	אבקה לבנה	אבקה לבנה
משקל מולקולרי	210.49	123.22
צְפִיפוּת	9.68 גרם/ס"מ³	5.85 גרם/ס"מ³
נקודת המסה	2758 מעלות צלזיוס	2700 מעלות צלזיוס
מס' CAS	12055-23-1	1314-23-4

לא.	פריט			מפרט סטנדרטי
1	טוֹהַר			טומאה (מקסימום PCT כל אחד)	גודל
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99.9%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/Th 0.005	60-150 רשת
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99.9%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100 mesh
4	אֲרִיזָה			25 ק"ג בשקית ניילון עם תוף קרטון בחוץ

Hafnium Oxide HfO₂, או Hafnium Dioxide, תרכובת של הפניום, HfO₂+ZrO₂≥99.9%, נקודת התכה 2758°C, צפיפות 9.68g/cm³, אינו מסיס במים, HCl ו-HNO₃, אבל מסיס ב H₂SO₄ו-HF.תחמוצת הפניום HfO₂הוא חומר קרמי עם פער פס רחב וקבוע דיאלקטרי גבוה.Hafnium Oxide HfO₂הוא הסביר ביותר להחליף את סיליקת מבודד השער של צינור אפקט שדה מוליכים למחצה מתכת תחמוצת כדי לפתור את בעיית מגבלת הגודל של הפיתוח של מבנה SiO₂/Si המסורתי ב-MOSFET, כך שזהו חומר מתקדם המשמש בתחום המיקרואלקטרוניקה.הוא נמצא בשימוש נרחב גם לייצור מתכת הפניום, תרכובות הפניום, חומר עקשן, חומר ציפוי אנטי רדיואקטיבי וזרז.